德*** IPLAS 微波等離子化學氣相沉積技術（MPCVD), 通過等離子增加前驅體的反應速率，降低反應溫度。適合制備面積大、均勻性好、純度高、結晶形態好的高質量硬質薄膜和晶體。
MPCVD是世界公認的制備大尺寸單晶金剛石有效手段。德***iplas公司的 CYRANNUS® 等離子技術解決了傳統等離子技術的局限，可以在10mbar到室壓范圍內激發高穩定度的等離子團，限度的減少了因氣流、氣壓、氣體成分、電壓等因素波動引起的等離子體狀態的變化，從而確保單晶生長的持續性，為合成大尺寸單晶金剛石提供有力保證。
| 化學機理概要： 碳氫化合物：提供沉積材料 氫氣：生成sp3鍵 氧：對石墨相/sp2鍵侵蝕 惰性氣體：緩沖氣體，或生成納米晶體。 適用合成材料： 大尺寸寶石***單晶鉆石 高取向度金剛石晶體 納米結晶金剛石 碳納米管/類金剛石碳（DLC） |  金剛石薄膜寶石***鉆石 vvs1,~1 carrat, E grade | | |
功率：1-2kW, 1-3kW, 3-6kW,1-6kW，5-30kW 等離子團直徑：70mm, 145mm, 250mm, 400mm | | | | 其他應用：
MPCVD同樣適用于平面基體，或曲面顆粒的其它硬質材料如Al2O3，c-BN的薄膜沉積和晶體合成。德***iplas公司憑借幾十年在等離子技術領域的積累，可以為用戶提供高度定制的設備，滿足用戶不同的應用需要。
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